Y2O3涂層的MOCVD法制備工藝

采用MOCVD法,通過(guò)金屬有機(jī)先驅(qū)體Y(TMHD)3與O2反應(yīng)在石英或CVD-SiC基片上制備Y2O3涂層,探索了制備工藝對(duì)沉積結(jié)果的影響.結(jié)果表明,先驅(qū)體氣相濃度對(duì)Y2O3涂層生長(zhǎng)方式和涂層與基片的結(jié)合強(qiáng)度有很大影響;沉積溫度在600℃～700℃范圍內(nèi),隨著溫度的升高涂層致密度提高,空洞缺陷減少.

作 者： 付正 張立同 成來(lái)飛 龔磊 何國(guó)梅 羅立志 夏海平   作者單位： 付正,張立同,成來(lái)飛(西北工業(yè)大學(xué)超高溫結(jié)構(gòu)復(fù)合材料國(guó)防科技重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室)

龔磊,何國(guó)梅,羅立志,夏海平(廈門(mén)大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院) 

刊 名： 航空制造技術(shù)  ISTIC 英文刊名： AERONAUTICAL MANUFACTURING TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2007 ""(z1)  分類(lèi)號(hào)： V2  關(guān)鍵詞： 氧化釔   化學(xué)氣相沉積   金屬有機(jī)先驅(qū)體   基片  

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