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波導(dǎo)模場分布采用模式匹配的PML處理方法
理想匹配層(PML)是近年來迅速發(fā)展起來的一種非常有效的吸收邊界.本文基于模式匹配法將PML吸收邊界條件用于平面光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)計算中,從理論上分析了PML吸收邊界條件的有效性,并在PML邊界條件下模擬計算了一個三段平面光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的模場分布.
作 者: 徐旻 楊盈瑩 XU Min YANG Ying-ying 作者單位: 安徽理工大學(xué),安徽,淮南,232001 刊 名: 電光與控制 ISTIC PKU 英文刊名: ELECTRONICS OPTICS & CONTROL 年,卷(期): 2007 14(2) 分類號: V271.4 TN011 關(guān)鍵詞: 理想匹配層(PML) 邊界條件 模式匹配 模場分布【波導(dǎo)模場分布采用模式匹配的PML處理方法】相關(guān)文章:
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