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平板擾流片高度對壁面壓力分布的影響
在風(fēng)洞中研究了擾流片高度和底部間隙對平板擾流片引起的底板壁面壓力分布的影響.用電子掃描閥測量的壓力分布結(jié)果表明,底部沒有間隙時,擾流片高度的增加不影響擾流片前后分離點、再附點以及主渦相對位置的變化;而下游回流區(qū)二次渦的相對高度隨著擾流片高度的增加而增加,導(dǎo)致該區(qū)域無量綱壓力系數(shù)絕對值減小.底部相對間隙在0.8～2.0之間時,擾流片高度小于邊界層厚度時的壁面平均壓力比擾流片高度大于邊界層厚度時小30%左右.底部間隙對各種擾流片引起的壁面壓力分布的影響趨勢完全相似.
作 者： 張攀峰 王晉軍 展京霞 作者單位： 北京航空航天大學(xué)飛行器設(shè)計與應(yīng)用力學(xué)系,北京,100083 刊 名： 水利學(xué)報 ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF HYDRAULIC ENGINEERING 年，卷(期)： 2002 ""(3) 分類號： V211.1+9 關(guān)鍵詞： 流動分離 流動再附 擾流片 壓力分布【平板擾流片高度對壁面壓力分布的影響】相關(guān)文章：
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