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類金剛石薄膜的紫外輻照研究
對(duì)射頻等離子體方法制備的類金剛石(以下簡(jiǎn)稱DLC)薄膜樣品進(jìn)行了紫外輻照.采用電阻率、Raman光譜及紅外光譜研究了紫外光(以下簡(jiǎn)稱UV)輻照對(duì)DLC薄膜結(jié)構(gòu)與特性的影響.Raman光譜表明:紫外光對(duì)DLC薄膜中SPC-H鍵的破壞作用非常明顯,紅外(IR)光譜結(jié)果進(jìn)一步驗(yàn)證了這一結(jié)果.經(jīng)UV輻照后,DLC薄膜的電阻率呈變小趨勢(shì),這說明薄膜被強(qiáng)烈氧化,最后呈現(xiàn)石墨化趨勢(shì).
謝二慶(蘭州大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,甘肅,蘭州,730000)
王天民(北京航空航天大學(xué)理學(xué)院,北京,100083)
刊 名： 功能材料 ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS 年，卷(期)： 2002 33(5) 分類號(hào)： O484 關(guān)鍵詞： 類金剛石薄膜 紫外光輻照 Raman光譜 紅外光譜 石墨化【類金剛石薄膜的紫外輻照研究】相關(guān)文章：
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