應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路工藝的高密度等離子體源研究進展

本文簡要地介紹了等離子體的產(chǎn)生方式以及傳統(tǒng)的射頻電容耦合等離子體源.對電子回旋共振等離子體(ECR),感應(yīng)耦合等離子體(ICP),螺旋波等離子體(HWP)等幾種新型的高密度等離子體源[1]的工作原理及結(jié)構(gòu)重點作了分析討論,并從運行參數(shù)上對其進行了比較.最后對高密度等離子體工藝加工中的等離子體約束以及器件損傷問題的最新研究進展進行了介紹.

作 者： 王平 楊銀堂 徐新艷 楊桂杰   作者單位： 西安電子科技大學(xué)微電子所,西安,710071  刊 名： 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報  ISTIC EI PKU 英文刊名： VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2002 22(4)  分類號： O531  關(guān)鍵詞： 高密度等離子體源   電子回旋共振   感應(yīng)耦合等離子體   螺旋波等離子體   器件損傷  

【應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路工藝的高密度等離子體源研究進展】相關(guān)文章：

沉淀工藝的研究進展04-26

SBR工藝的研究進展04-26

微電解工藝研究進展04-26

沼氣凈化脫硫工藝的研究進展04-26

等離子體技術(shù)在化學(xué)毒劑洗消中的研究進展04-25

動物源防御素的功能研究進展04-26

反硝化除磷工藝研究進展04-26

農(nóng)業(yè)面源污染防控研究進展04-26

低溫等離子體技術(shù)降解含氮硫廢氣的研究進展04-26

高壓脈沖放電等離子體水處理技術(shù)研究進展04-25