高聚物薄膜表面堆起結(jié)構(gòu)的變溫原子力顯微術(shù)研究

利用原子力顯微鏡研究了不同溫度(室溫至58℃)及掃描速率(1-20μm/s)對高聚物PtBuA薄膜(厚度為133nm)表面上形成的突起結(jié)構(gòu)和周期狀堆起結(jié)構(gòu)的影響.發(fā)現(xiàn)較快的掃描速率或較低的溫度易產(chǎn)生隨機(jī)的團(tuán)狀突起,較慢的掃描速率或較高的溫度則易形成周期狀突起結(jié)構(gòu)(周期寬度約為100nm),且溫度和掃描速率對周期狀堆起結(jié)構(gòu)的影響定性滿足高聚物的時溫等效關(guān)系.此外,當(dāng)溫度低于高聚物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg時,表面粗糙度隨掃描次數(shù)的增加而增加;高于Tg時,表面粗糙度基本不變.實驗表明堆起結(jié)構(gòu)的形成需要高聚物有較大的模量、較小的粘附力和較弱的分子弛豫能力,因此該類結(jié)構(gòu)主要在玻璃態(tài)才能形成.

作 者： 王曉平 石勤偉   作者單位： 王曉平(中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)物理系,合肥,230026;中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)結(jié)構(gòu)分析開放實驗室,合肥,230026)

石勤偉(中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)結(jié)構(gòu)分析開放實驗室,合肥,230026) 

刊 名： 物理學(xué)報  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA PHYSICA SINICA  年，卷(期)： 2003 52(3)  分類號： O4  關(guān)鍵詞： 高聚物   原子力顯微術(shù)   納米技術(shù)  

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