SiO2/Si襯底上聚苯乙稀薄膜的退濕潤過程觀測

采用光學(xué)顯微鏡和原子力顯微鏡觀測了光滑SiO2襯底上聚苯乙稀薄膜的退濕潤過程. 觀測到成核退濕潤過程為:初態(tài)時,在聚苯乙稀薄膜中出現(xiàn)隨機(jī)分布的小孔,并且小孔隨著時間的增加而逐漸變大,孔的尺寸的變化與時間成正比;終態(tài)時觀測到聚苯乙稀小球在SiO2襯底上的蜂窩狀分布,聚苯乙稀小球的分布與薄膜表面的缺陷密切相關(guān).

作 者： 劉海林 熊銳 李美亞 LIU Hai-lin XIONG Rui LI Mei-ya   作者單位： 武漢大學(xué),物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,湖北,武漢,430072  刊 名： 物理實(shí)驗(yàn)  PKU 英文刊名： PHYSICS EXPERIMENTATION  年，卷(期)： 2009 29(2)  分類號： O484  關(guān)鍵詞： 退濕潤過程   聚苯乙稀薄膜   SiO2/Si襯底  

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