透射光譜法測試薄膜的光學(xué)參數(shù)

推導(dǎo)了使用透射光譜極值法來確定薄膜光學(xué)參數(shù)的理論公式,并對溶膠-凝膠法制作的摻不同濃度二氧化錫的二氧化硅薄膜的折射率和厚度進(jìn)行了計(jì)算.由于透射光譜法來確定薄膜的光學(xué)參數(shù)時(shí)需要其有一定的厚度來形成干涉峰,而用溶膠凝膠浸漬法單次提拉的薄膜厚度太薄,因此用多次提拉的方法來增加厚度.最后借助于柯西色散公式,在其它波段對折射率進(jìn)行了擬合.結(jié)果表明,薄膜的折射率隨著二氧化錫含量的增加而增加,相同提拉次數(shù)的薄膜厚度也基本相同.

作 者： 顧曉明 賈宏志 王鏗 朱一 GU Xiaoming JIA Hongzhi WANG Keng ZHU Yi   作者單位： 上海理工大學(xué),光電信息與計(jì)算機(jī)工程學(xué)院,上海,200093  刊 名： 光學(xué)儀器  ISTIC 英文刊名： OPTICAL INSTRUMENTS  年，卷(期)： 2009 31(2)  分類號： O484.5  關(guān)鍵詞： 透射光譜   薄膜   光學(xué)參數(shù)   折射率  

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