玻璃基板作用下高分子共混物薄膜相形態(tài)發(fā)展過程

研究了玻璃基板作用下極性高聚物為低組分的共混物薄膜在退火條件下相形態(tài)的發(fā)展過程.選用聚苯乙烯(PS)/聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)與聚苯乙烯(PS)/聚ε-己內(nèi)酯(PCL)兩個體系,在玻璃基板上Spin-Coating成膜后退火.由于共混物薄膜中極性相對較大的高聚物組分(PMMA和PCL)相對于極性較小的PS組分對玻璃基板具有更好的潤濕性,所以在上述的兩個共混薄膜體系中其相形態(tài)分別顯示PMMA和PCL在低組分比例下最終發(fā)展成為連續(xù)相.利用掃描電鏡以及元素分析很好地驗證了以上的結(jié)論,并且對其機理進行了解釋.此外,改變PS的分子量與PCL共混,研究了組分粘度對薄膜相形態(tài)發(fā)展的影響.結(jié)果表明,PS組分粘度越大,共混物薄膜相結(jié)構(gòu)發(fā)展速度越慢.

作 者： 宗騏 李治 方健 孔祥明 謝續(xù)明   作者單位： 清華大學(xué)化工系高分子研究所,材料院教育部先進材料重點實驗室,北京,100084  刊 名： 高分子學(xué)報  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA POLYMERICA SINICA  年，卷(期)： 2003 ""(2)  分類號： O6  關(guān)鍵詞： 高分子共混物   基板   薄膜   潤濕性  

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