一種軟X射線多層膜界面粗糙度的計(jì)算方法

提出一個(gè)利用多層膜小角X射線衍射譜衍射峰積分強(qiáng)度計(jì)算多層膜界面粗糙度的公式.用磁控濺射技術(shù)制備Mo/Si多層膜,用波長為0.154 nm的硬X射線測量樣品在小掠入射角區(qū)的衍射曲線,分別用本文公式和反射率曲線擬合方法計(jì)算了樣品的界面粗糙度.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:由本文公式獲得的界面粗糙度近似于擬合方法獲得的界面粗糙度,它們略等于多層膜界面實(shí)際粗糙度.

作 者： 馮仕猛 趙海鷹 黃梅珍 范正修 邵建達(dá) 竇曉鳴   作者單位： 馮仕猛,趙海鷹,黃梅珍,竇曉鳴(上海交通大學(xué)物理系,上海)

范正修,邵建達(dá)(中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所,上海,201800) 

刊 名： 光學(xué)學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2003 23(8)  分類號： O484  關(guān)鍵詞： 薄膜光學(xué)   多層膜   X射線衍射強(qiáng)度   粗糙度  

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