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離子束增強沉積合成ZrN/W納米多層膜
利用離子束增強沉積方法在室溫和不同能量的氮離子轟擊條件下制備了不同調(diào)制周期的ZrN/W納米多層膜. 利用XRD, AES和納米壓痕儀分析了調(diào)制周期和離子轟擊能量對薄膜結(jié)構(gòu)和機械性能的影響, 結(jié)果表明多層膜的機械性能基本都優(yōu)于單質(zhì)的ZrN或W薄膜. 和其他制備條件相比, 在300 eV能量的氮離子轟擊下制備的調(diào)制周期為 8～9 nm的多層膜, 其結(jié)構(gòu)中出現(xiàn)了強的 ZrN(111), W(110)和 ZrN(220)織構(gòu)的混合, 它的硬度和彈性模量分別達到 26 和 310 GPa, 也展示了較高的耐磨性.
作 者： 李德軍 張晶晶 鄧湘云 王明霞 作者單位： 天津師范大學(xué)物理與電子信息學(xué)院,天津,300000 刊 名： 中國科學(xué)E輯 ISTIC PKU 英文刊名： SCIENCE IN CHINA(SERIES E) 年，卷(期)： 2007 37(11) 分類號： O6 關(guān)鍵詞： 離子束增強沉積 ZrN/W 多層膜 納米尺度【離子束增強沉積合成ZrN/W納米多層膜】相關(guān)文章：
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