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摻Nd納米ZnO薄膜特性研究
研究了用真空蒸發(fā)法在玻璃襯底上制備稀土摻雜納米ZnO薄膜結(jié)構(gòu)、導(dǎo)電性及光透射性能.結(jié)果顯示,在500 ℃氧化、熱處理稀土元素Nd摻雜后能夠明顯改善納米ZnO薄膜的結(jié)構(gòu)特性,薄膜的晶粒尺寸隨摻雜含量的增加而減小.摻Nd使ZnO薄膜的電性能有所改善但使納米ZnO薄膜的光透射性有所降低.
作 者: 李健 賽喜雅勒圖 郝麗娟 作者單位: 內(nèi)蒙古大學(xué)物理系,呼和浩特,010021 刊 名: 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報 ISTIC EI PKU 英文刊名: VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY 年,卷(期): 2003 23(3) 分類號: O484.1 關(guān)鍵詞: 真空蒸發(fā) 納米ZnO薄膜 摻雜【摻Nd納米ZnO薄膜特性研究】相關(guān)文章:
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