等離子體吸收隱身技術(shù)的吸收功率數(shù)值模擬

介紹了等離子體吸收隱身的機(jī)理,并對(duì)等離子體吸收隱身在特定的參數(shù)下進(jìn)行了數(shù)值模擬,從中分析出了影響等離子體吸收隱身技術(shù)效果的幾個(gè)因素.

作 者： 曾福華 劉正東 ZENG Fu-hua LIU Zheng-dong   作者單位： 曾福華,ZENG Fu-hua(南昌大學(xué),近代物理研究所,江西,南昌,330031)

劉正東,LIU Zheng-dong(南昌大學(xué),納米技術(shù)工程研究中心,江西,南昌,330031) 

刊 名： 南昌大學(xué)學(xué)報(bào)（理科版）  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NANCHANG UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE)  年，卷(期)： 2008 32(2)  分類號(hào)： O536  關(guān)鍵詞： 等離子體   吸收隱身技術(shù)   等離子頻率  

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