氟化鈣晶體的生長和應(yīng)用研究

CaF2晶體作為一種傳統(tǒng)晶體材料, 應(yīng)用十分廣泛.文中綜合介紹了CaF2晶體在深紫外光刻機的光學(xué)元件、激光晶體和被動Q開關(guān)三個領(lǐng)域的應(yīng)用現(xiàn)狀及趨勢, 歸總了CaF2晶體具有的優(yōu)異性能, 闡述了CaF2晶體與深紫外準(zhǔn)分子激光之間的作用, 晶體結(jié)構(gòu)對激光性能的影響, 晶體生長和加工等諸多方面的研究進(jìn)展.

作 者： 蘇良碧 徐軍 楊衛(wèi)橋 董永軍 周國清   作者單位： 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所,上海,201800  刊 名： 硅酸鹽學(xué)報  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY  年，卷(期)： 2003 31(12)  分類號： O-78  關(guān)鍵詞： 氟化鈣   晶體生長   準(zhǔn)分子激光光刻   激光晶體   Q開關(guān)  

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