脈沖激光退火納米碳化硅薄膜的拉曼散射研究

采用XeCl準分子激光實現(xiàn)了碳化硅薄膜的脈沖激光晶化,對退火前后薄膜樣品拉曼散射譜特征進行了分析,探討了激光能量密度對納米碳化硅薄膜結構和物相特性的影響.結果顯示晶態(tài)納米碳化硅薄膜的拉曼散射峰相對體材料的特征峰顯著寬化和紅移,并顯示了伴隨退火過程存在著硅和碳的物相分凝現(xiàn)象.隨著激光能量密度的增大,薄膜的晶化度提高,晶化顆粒增大,而伴隨的分凝程度逐漸減小.

作 者： 于威 何杰 孫運濤 朱海豐 韓理 傅廣生   作者單位： 河北大學物理科學與技術學院,河北,保定,071002  刊 名： 中國激光  ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS  年，卷(期)： 2004 31(z1)  分類號： O657.37  關鍵詞： 薄膜物理學   拉曼散射   晶化   激光退火   碳化硅  

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