磁控濺射法制備氮化碳薄膜的研究進(jìn)展

簡要評(píng)述了磁控濺射法制備氮化碳(CNx)薄膜的研究進(jìn)展的現(xiàn)狀,以及磁控濺射法制備氮化碳(CNx)薄膜過程中工藝參數(shù)對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)和性能的影響,展望了氮化碳研究的發(fā)展趨勢.

作 者： 陳春 劉軍 畢凱 陳志剛 李忠學(xué) 張興國 CHEN Chun LIU Jun BI Kai CHEN Zhigang LI Zhongxue Zhang Xingguo   作者單位： 陳春,劉軍,李忠學(xué),張興國,CHEN Chun,LIU Jun,LI Zhongxue,Zhang Xingguo(江蘇大學(xué)材料學(xué)院,鎮(zhèn)江,212013)

畢凱,BI Kai(鎮(zhèn)江船艇學(xué)院,鎮(zhèn)江,212003)

陳志剛,CHEN Zhigang(江蘇工業(yè)學(xué)院,常州,213100) 

刊 名： 材料導(dǎo)報(bào)  ISTIC PKU 英文刊名： MATERIALS REVIEW  年，卷(期)： 2005 19(z1)  分類號(hào)：   關(guān)鍵詞： 磁控濺射   氮化碳   薄膜  

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